Siliciuro di zirconio, ZrSi2

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Siliciuro di zirconio, ZrSi2

il disilicato di zirconio è utilizzato principalmente in metalloceramica, rivestimenti resistenti all'ossidazione ad alta temperatura, materiali strutturali ad alta temperatura, aerospaziale e altro campo


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Formula molecolare  7rsi2
Il numero CAS  12039-90-6
Descrizione  polvere grigia
Punto di fusione 1620.C
Segreto  4,88 g / cm3
Applicazione  il disilicato di zirconio viene utilizzato principalmente in metalloceramica, rivestimenti resistenti all'ossidazione ad alta temperatura, materiali strutturali ad alta temperatura, aerospaziale e altri campi

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Siliciuro di zirconio
Peso molecolare: 147,39
EINECS : 234-911-1
CAS : 12039-90-6
Carattere: polvere cristallina quadrata grigia
Densità (g / ml, 25 ℃): 4,88
Punto di fusione (OC): 1620
Costanti del reticolo: a = 0,372 nm, B = 1,476 nm, C = 0,367 nm.
Microdurezza (kg / mm2): 1063
Calore di formazione (kJ / mol): 62,8
Funzione e applicazione: utilizzato come materia prima in polvere di ceramica fine, crogiolo per la produzione di film semiconduttori, pastiglie freno in carboceramica e disco freno. La frazione di massa del disiliciuro di zirconio è del 10-15%. L'aggiunta di questa frazione di massa di disiliciuro di zirconio nei compositi a matrice ceramica può ridurre significativamente la temperatura di sinterizzazione dei materiali.
Studio sull'elasticità e l'anisotropia del siliciuro di zirconio
I composti formati da metallo e silicio sono siliciuri metallici, che possono essere suddivisi in due categorie: 1. I siliciuri metallici refrattari si riferiscono alla tavola periodica IVB, VB, I siliciuri degli elementi del gruppo VIB, come siliciuro di titanio, siliciuro di zirconio, siliciuro di tantalio , siliciuro di tungsteno, ecc., 2 metallo prezioso e vicino siliciuro di metallo prezioso, bersaglio di siliciuro, siliciuro di platino, siliciuro di cobalto, ecc. in una parola, il siliciuro di metallo è un materiale relativamente duro con lucentezza metallica, alta conduttività, resistenza positiva e coefficiente di umidità, e il siliciuro metallico magnetico e refrattario nella maggior parte dei casi Ha un elevato punto di fusione, durezza e resistenza alla compressione, elevata resistenza allo scorrimento ad alta temperatura, media densità, resistenza alla trazione e buone proprietà meccaniche di temperatura.
La reazione tra metallo e silicio riduce l'attività del metallo.
Pertanto, la stabilità chimica dei siliciuri è abbastanza buona. I siliciuri metallici refrattari ad alto contenuto di silicio hanno una buona resistenza alla corrosione e resistenza all'ossidazione a temperatura ambiente e alta temperatura Svantaggi dei prodotti chimici: è fragile a temperatura ambiente, bassa tenacità agli urti e insufficiente resistenza agli shock termici. Le proprietà fisiche e chimiche dei siliciuri metallici conferiscono loro molti usi. Prima di tutto, i siliciuri come materiali strutturali per alte temperature hanno buone prospettive di applicazione nell'industria aeronautica, aerospaziale e chimica. Come rivestimento resistente all'ossidazione ad alta temperatura, materiali magnetici, pellicola per elettrodi a circuito integrato e altri materiali funzionali, i siliciuri sono stati ampiamente studiati e applicati. Ad esempio, la lega ordinata fe2si ha eccellenti proprietà magnetiche morbide, ampiamente utilizzate in materiali audio, video e testine magnetiche per lettori di schede; come v2si, CoSi2, Mo2Si, a causa della sua eccellente conduttività elettrica, v2si è la prima fase superconduttiva A15 trovata, la sua temperatura di transizione critica è 17,1k; MoSi2 è ampiamente utilizzato come elemento riscaldante di forni elettrici ad alta temperatura a causa della sua eccellente conduttività e dell'eccellente resistenza all'ossidazione Come il rivestimento resistente all'ossidazione ad alta temperatura utilizzato nel settore aerospaziale, il siliciuro metallico svolge un ruolo molto importante nella produzione di dispositivi elettronici. Poiché la resistenza del siliciuro è inferiore a quella del polisilicio e l'interfaccia tra il siliciuro e il substrato di silicio è un'interfaccia pulita a livello atomico con una buona compatibilità, è stata ampiamente utilizzata come barriera Schottky e materiale di interconnessione nell'industria di produzione microelettronica.


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