Polvere di siliciuro

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  • Molybdenum Silicide, MoSi2

    Siliciuro di molibdeno, MoSi2

    Il disiliciuro di molibdeno (Molybdenumdisilicide, MoSi2) è un tipo di composti di molibdeno di silicio, perché i due raggi atomici erano simili, l'elettronegatività vicina a, quindi è simile alla natura del metallo e della ceramica.

  • Copper Silicide, Cu5Si

    Siliciuro di rame, Cu5Si

    Il siliciuro rameico (cu5si), noto anche come siliciuro rameico, è un composto di silicio binario di rame, che è un composto intermetallico metallico, il che significa che le sue proprietà sono tra composti ionici e leghe. Ha un'eccellente conducibilità, conducibilità termica, duttilità, resistenza alla corrosione e resistenza all'usura. Le pellicole di siliciuro di rame possono essere utilizzate per passivare chip a base di rame, inibire la loro diffusione e migrazione di elettroni e agire come barriere alla diffusione.

  • Chromium Silicide, CrSi2

    Siliciuro di cromo, CrSi2

    Applicazione di disiliciuro di cromo nella preparazione di materiali ceramici mediante pirolisi di policarbosilano come precursore La polvere di disiliciuro di cromo può favorire la reazione di cracking dei PC, aumentare la resa ceramica del precursore, ridurre il ritiro lineare del precursore nel processo di pirolisi e migliorare la proprietà dei materiali ceramici.

  • Zirconium silicide, ZrSi2

    Siliciuro di zirconio, ZrSi2

    il disilicato di zirconio è utilizzato principalmente in metalloceramica, rivestimenti resistenti all'ossidazione ad alta temperatura, materiali strutturali ad alta temperatura, aerospaziale e altro campo

  • Tantalum Silicide powder, TaSi2

    Polvere di siliciuro di tantalio, TaSi2

    il siliciuro di tantalio ha un alto punto di fusione bassa resistività, resistente alla corrosione, resistenza all'ossidazione ad alta temperatura e silicio, il materiale a matrice di carbonio ha proprietà eccellenti come una buona compatibilità, come il materiale della griglia, le linee di collegamento del circuito integrato, il rivestimento di resistenza all'ossidazione ad alta temperatura, ecc. elemento riscaldante elettrico, il campo delle parti della struttura ad alta temperatura e dispositivi elettronici , e più ricerca e applicazione

  • Titanium Silicide powder, Ti5Si3

    Polvere di siliciuro di titanio, Ti5Si3

    Ti5Si3 ha un punto di fusione elevato (2130 ℃), bassa densità (4,65 g / cm3) ed eccellenti proprietà ad alta temperatura come durezza ad alta temperatura, buona stabilità alle alte temperature e resistenza all'ossidazione, quindi dovrebbe essere utilizzato per materiali strutturali ad alta temperatura sopra 1300 ℃.

  • Cobalt Silicide, CoSi2

    Siliciuro di cobalto, CoSi2

    La formula chimica CoSi2. Il peso molecolare è 115,11. Cristallo ortorombico marrone scuro. Il punto di fusione è 1277 ℃ e la densità relativa è 5,3. Può essere ossidato a 1200 ℃ ed eroderne la superficie;

  • Nickel Silicide, Ni2Si

    Siliciuro di nichel, Ni2Si

    Il silicio (NiSi) è una lega austenitica (NiSi) (1); viene utilizzato come materiale del polo negativo della termocoppia di tipo n. La sua stabilità termoelettrica è migliore di quella della coppia elettrica di tipo E, J e K. La lega di nichel silicio non deve essere collocata in gas contenenti zolfo. Recentemente, è elencato come un tipo di termocoppia negli standard internazionali.

  • Manganese Silicide, MnSi

    Siliciuro di manganese, MnSi

    Solubile in acido fluoridrico, alcali, insolubile in acqua, acido nitrico, acido solforico.Il siliciuro di manganese è un tipo di siliciuro di metallo di transizione, che è una sorta di composto intermetallico refrattario.

  • vanadium silicide, VSi2

    siliciuro di vanadio, VSi2

    Cristallo prismatico metallico. La densità relativa era 4,42. Insolubile in acqua fredda e acqua calda, solubile in acido fluoridrico, insolubile in etanolo, etere e acido. Metodo: secondo la corrispondenza Il rapporto tra pentossido di vanadio e silicio reagisce a 1200 ℃, o sarà proporzionale al metallo Il vanadio può essere ottenuto per reazione del vanadio con il silicio ad alta temperatura.

  • Magnesium Silicide, Mg2Si

    Siliciuro di magnesio, Mg2Si

    Mg2Si è l'unico composto stabile del sistema binario Mg Si. Ha le caratteristiche di alto punto di fusione, elevata durezza e alto modulo elastico. È un materiale semiconduttore di tipo n a banda stretta. Ha importanti prospettive di applicazione in dispositivi optoelettronici, dispositivi elettronici, dispositivi energetici, laser, produzione di semiconduttori, comunicazione di controllo della temperatura costante e altri campi.

  • Titanium Disilicide, TiSi2

    Disiliciuro di titanio, TiSi2

    Prestazioni al siliciuro di titanio: eccellente resistenza all'ossidazione ad alta temperatura, utilizzato come materiali resistenti al calore, corpo riscaldante ad alta temperatura, ecc.

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